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国产光刻机的新进展:我国有了光刻机核心技术

国产光刻机的新进展:我国有了光刻机核心技术

  • 分类:行业动态
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  • 来源:
  • 发布时间:2016-05-16 18:26
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科技日报北京5月13日电 (记者林莉君)对于普通人来说,光刻机或许是一个陌生的名词,但它却是制造大规模集成电路的核心装备,每颗芯片诞生之初,都要经过光刻技术的锻造。记者13日从清华大学获悉,*科技重大专项光刻机双工件台系统样机研发通过验收,使我国成为少数能研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域较高系统的*之一。


    “简单地说,光刻机就是把工程师的设计印入基底材料,其核心技术长期被荷兰、日本、德国等把持。”“千人计划”专家、从事密码芯片研发的九州华兴集成电路设计公司优选科学家丁丹在接受科技日报记者采访时说,“我们研发的芯片投入生产时,130纳米的芯片开模就是120万元人民币,而28纳米的芯片开模费用高达上千万元人民币。”


    据介绍,为了将设计图形制作到硅片上,并在2—3平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管,光刻机需达到几十纳米甚至更高的图像分辨率。而光刻机两大核心部件之一的工件台,在高速运动下需达到2纳米(相当于头发丝直径的三万分之一)的运动精度。因此光刻机双工件台又被称为“超精密技术皇冠上的明珠”。


    专家组认为,历经5年攻关,研究团队研制出2套光刻机双工件台掩模台系统α样机,关键技术指标已达到*同类光刻机双工件台水平,并获得*授权122项,为后续产品研发和产业化打下了坚实基础。
 

 

目前世界主流的光刻机还是深紫外侵入式光刻机,在这个光刻机上面 世界占有率较高的是荷兰的ASML ,目前荷兰的这家公司可以把这个技术的光刻机做到14纳米,另外是日本的可以做到18纳米。但是因为深紫外技术固有的缺点 ,导致不能继续的向更加精度的方向发展。如果想做到10纳米一下 那么就要用到级紫外技术的光刻机。在这个极紫外技术的光刻机上面的研发荷兰那个公司先进,日本尼康*的落后。(尼康大约占有全球光刻机市场份额的20%,而ASML占超过70%

 

附:INTEL,三星,台积电都是ASML的股东,所以ASML垄断了高端光刻机市场 80%以上的份额; 另生产CMOS用的光刻机全都是尼康产的,这个是有根据的。中国光刻机设备算起步阶段,和ASML没得比,追赶日本光刻机技术也需时日。

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